不锈钢蚀刻也称光化学蚀刻(photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。半蚀刻产品深度可控,最浅深度可达0.05mm,直至蚀刻穿。深度精度公差可达+/-0.005mm。